使用等離子的表面處理裝置。著重于“使用簡(jiǎn)單”的臺(tái)式
高性能型號(hào),調(diào)取數(shù)據(jù)簡(jiǎn)單,以電子材料為中心,可對(duì)應(yīng)
多種用途。
●可變更電極構(gòu)造提高等離子效果。
●搭載高精度適配器,高性能RF電源。
●可根據(jù)需求規(guī)格提供定制。
特征
●硅晶圓的灰化及蝕刻
●基板表面污垢處理
●IC/LED封裝、BGA/CSP基板處理
●半導(dǎo)體相關(guān)部品的電子材料的干式清洗
●自然氧化膜·有機(jī)物去除
●界面活性處理
●表面污染物去除
13.56MHz 高頻輸出的等離子清洗機(jī),搭載RIE·DP 雙模式。
等離子模式 |
DP/RIE |
高頻電源 |
13.56MHz |
輸出功率 |
Max1000 & 1500W |
有效電極尺寸 |
W400×D375mm |
電極 |
平板(多目的) |
反應(yīng)氣體 |
聚合控制器2系統(tǒng)(填充氣路另行安裝) |
真空泵(標(biāo)配) |
1000 & 1500L/min |
安全裝置 |
門(mén)檢測(cè)開(kāi)關(guān)、聯(lián)鎖機(jī)構(gòu)、緊急停止開(kāi)關(guān)、溫度過(guò)升防止器等 |